ئېلېكترونلۇق گاز ئارىلاشمىسى

ئالاھىدە گازلارئادەتتىكىدىن پەرقلىنىدۇسانائەت گازلىرىچۈنكى ئۇلار ئالاھىدە ئىشلىتىلىشكە ئىگە ۋە مەلۇم ساھەلەردە ئىشلىتىلىدۇ. ئۇلارنىڭ ساپلىقى، ئارىلاشما مىقدارى، تەركىبى ۋە فىزىكىلىق ۋە خىمىيىلىك خۇسۇسىيەتلىرىگە ئالاھىدە تەلەپلەر بار. سانائەت گازلىرىغا سېلىشتۇرغاندا، ئالاھىدە گازلارنىڭ تۈرى كۆپ خىل، ئەمما ئىشلەپچىقىرىش ۋە سېتىش مىقدارى كىچىك.

بۇئارىلاشما گازلارۋەئۆلچەملىك كالىبراتسىيە گازلىرىبىز ئادەتتە ئىشلىتىدىغان ئالاھىدە گازلارنىڭ مۇھىم تەركىبىي قىسمى. ئارىلاش گازلار ئادەتتە ئادەتتىكى ئارىلاش گازلار ۋە ئېلېكترونلۇق ئارىلاش گازلار دەپ ئايرىلىدۇ.

ئادەتتىكى ئارىلاشما گازلار تۆۋەندىكىلەرنى ئۆز ئىچىگە ئالىدۇ:لازېر ئارىلاشما گاز، ئەسۋابلارنى بايقاش ئارىلاشما گاز، كەپشەرلەش ئارىلاشما گاز، ساقلاش ئارىلاشما گاز، ئېلېكتر نۇر مەنبەسى ئارىلاشما گاز، داۋالاش ۋە بىئولوگىيە تەتقىقاتى ئارىلاشما گاز، دېزىنفېكسىيە ۋە ستېرىللاش ئارىلاشما گاز، ئەسۋاب سىگنالى ئارىلاشما گاز، يۇقىرى بېسىملىق ئارىلاشما گاز ۋە نۆل دەرىجىلىك ھاۋا.

لازېر گازى

ئېلېكترونلۇق گاز ئارىلاشمىلىرى ئېپىتاكسىيال گاز ئارىلاشمىلىرى، خىمىيىلىك پارغا چۆكۈش گاز ئارىلاشمىلىرى، قوش گاز ئارىلاشمىلىرى، ئويۇش گاز ئارىلاشمىلىرى ۋە باشقا ئېلېكترونلۇق گاز ئارىلاشمىلىرىنى ئۆز ئىچىگە ئالىدۇ. بۇ گاز ئارىلاشمىلىرى يېرىم ئۆتكۈزگۈچ ۋە مىكرو ئېلېكترون سانائىتىدە مۇھىم رول ئوينايدۇ ھەمدە چوڭ تىپتىكى بىرلەشتۈرۈلگەن توك يولى (LSI) ۋە ناھايىتى چوڭ تىپتىكى بىرلەشتۈرۈلگەن توك يولى (VLSI) ئىشلەپچىقىرىشتا، شۇنداقلا يېرىم ئۆتكۈزگۈچ ئۈسكۈنىلەر ئىشلەپچىقىرىشتا كەڭ قوللىنىلىدۇ.

5 خىل ئېلېكترونلۇق ئارىلاشما گاز ئەڭ كۆپ ئىشلىتىلىدۇ

ئارىلاشما گاز قوشۇش

يېرىم ئۆتكۈزگۈچ ئۈسكۈنىلەر ۋە ئىنتېگرال توك يولى ئىشلەپچىقىرىشتا، يېرىم ئۆتكۈزگۈچ ماتېرىياللارغا مەلۇم ئارىلاشمىلار قوشۇلۇپ، ئارزۇ قىلىنغان ئۆتكۈزۈشچانلىق ۋە قارشىلىق كۈچى بېرىلىدۇ، بۇ ئارقىلىق قارشىلىق، PN تۇتاشتۇرۇش ئېغىزى، كۆمۈلگەن قەۋەت ۋە باشقا ماتېرىياللارنى ئىشلەپچىقىرىشقا بولىدۇ. ئارىلاشتۇرۇش جەريانىدا ئىشلىتىلىدىغان گازلار ئارىلاشتۇرغۇچ گازلىرى دەپ ئاتىلىدۇ. بۇ گازلار ئاساسلىقى ئارسىن، فوسفىن، فوسفور ترىفتورىد، فوسفور پېنتافتورىد، ئارسېن ترىفتورىد، ئارسېن پېنتافتورىد قاتارلىقلارنى ئۆز ئىچىگە ئالىدۇ.بور ترىفتورىد، ۋە دىبوران. قوشۇمچە ماددا مەنبەسى ئادەتتە مەنبە ئىشكاپىدا توشۇغۇچى گاز (مەسىلەن، ئارگون ۋە ئازوت) بىلەن ئارىلاشتۇرۇلىدۇ. ئاندىن ئارىلاشما گاز ئۈزلۈكسىز دىففۇزىيە ئوچىقىغا قۇيۇلىدۇ ۋە ۋاففىرانىڭ ئەتراپىدا ئايلىنىدۇ، قوشۇمچە ماددا ۋاففىرا يۈزىگە قويۇلىدۇ. ئاندىن قوشۇمچە ماددا كرېمنىي بىلەن رېئاكسىيە قىلىپ، قوشۇمچە ماددا مېتالىنى ھاسىل قىلىدۇ، بۇ مېتال كرېمنىيغا يۆتكىلىدۇ.

دىبوران گاز ئارىلاشمىسى

ئېپىتاكسىيال ئۆسۈش گازى ئارىلاشمىسى

ئېپىتاكسىيەلىك ئۆسۈش دېگەنلىك يەككە كىرىستاللىق ماتېرىيالنى ئاساسىي تاختىنىڭ يۈزىگە قويۇش ۋە ئۆستۈرۈش جەريانى. يېرىم ئۆتكۈزگۈچ سانائىتىدە، ئېھتىيات بىلەن تاللانغان ئاساسىي تاختىدا خىمىيىلىك پار چۆكمىسى (CVD) ئارقىلىق بىر ياكى بىردىن ئارتۇق قەۋەت ماتېرىيال ئۆستۈرۈشتە ئىشلىتىلىدىغان گازلار ئېپىتاكسىيەلىك گازلار دەپ ئاتىلىدۇ. كۆپ ئۇچرايدىغان كرېمنىيلىق ئېپىتاكسىيەلىك گازلارغا دىھىدروگېن دىخلوروسىلان، كرېمنىيلىق تېتراخلورىد ۋە سىلان قاتارلىقلار كىرىدۇ. ئۇلار ئاساسلىقى ئېپىتاكسىيەلىك كرېمنىي چۆكمىسى، كۆپ كىرىستاللىق كرېمنىي چۆكمىسى، كرېمنىي ئوكسىد پەردىسى چۆكمىسى، كرېمنىي نىترىد پەردىسى چۆكمىسى ۋە قۇياش باتارېيەسى ۋە باشقا نۇرغا سەزگۈر ئۈسكۈنىلەر ئۈچۈن ئامورف كرېمنىي پەردىسى چۆكمىسى ئۈچۈن ئىشلىتىلىدۇ.

ئىئون ئىمپلانتاتسىيە گازى

يېرىم ئۆتكۈزگۈچ ئۈسكۈنىلەر ۋە بىرلەشتۈرۈلگەن توك يولى ئىشلەپچىقىرىشتا، ئىئون ئىمپلانتاتسىيەسى جەريانىدا ئىشلىتىلىدىغان گازلار بىرلىكتە ئىئون ئىمپلانتاتسىيەسى گازلىرى دەپ ئاتىلىدۇ. ئىئونلاشتۇرۇلغان ئارىلاشمىلار (مەسىلەن، بور، فوسفور ۋە ئارسېن ئىئونلىرى) ئاساسىي قاتلامغا ئىمپلانتاتسىيە قىلىنىشتىن بۇرۇن يۇقىرى ئېنېرگىيە سەۋىيەسىگە تېزلەشتۈرۈلىدۇ. ئىئون ئىمپلانتاتسىيەسى تېخنىكىسى ئەڭ كەڭ دائىرىدە چەك بېسىمىنى كونترول قىلىشتا ئىشلىتىلىدۇ. ئىمپلانتاتسىيە قىلىنغان ئارىلاشمىلارنىڭ مىقدارىنى ئىئون نۇرى ئېقىمىنى ئۆلچەش ئارقىلىق بېكىتكىلى بولىدۇ. ئىئون ئىمپلانتاتسىيەسى گازلىرى ئادەتتە فوسفور، ئارسېن ۋە بور گازلىرىنى ئۆز ئىچىگە ئالىدۇ.

ئارىلاشما گازنى ئوراپ ئىشلەش

ئويۇش دېگەنلىك، فوتورېزىست بىلەن يېپىلمىغان ئاساستىكى پىششىقلاپ ئىشلەنگەن يۈزنى (مەسىلەن، مېتال پەردە، كرېمنىي ئوكسىد پەردىسى قاتارلىقلار) ئويۇپ چىقىرىۋېتىش جەريانى بولۇپ، فوتورېزىست بىلەن يېپىلمىغان رايوننى ساقلاپ قېلىپ، ئاساس يۈزىدە لازىملىق رەسىم شەكلىگە ئېرىشىشنى كۆرسىتىدۇ.

خىمىيىلىك پار چۆكۈش گاز ئارىلاشمىسى

خىمىيىلىك پارغا چۆكۈش (CVD) پارغا ئايلاندۇرۇش ئۇسۇلى ئارقىلىق يەككە ماددا ياكى بىرىكمىنى پارغا ئايلاندۇرۇش ئۇسۇلى ئارقىلىق چۆكتۈرىدۇ. بۇ پارغا ئايلاندۇرۇش ئۇسۇلى ئارقىلىق خىمىيىلىك رېئاكسىيەلەرنى ئىشلىتىدىغان پەردە شەكىللەندۈرۈش ئۇسۇلى. ئىشلىتىلگەن CVD گازلىرى شەكىللىنىۋاتقان پەردە تۈرىگە ئاساسەن ئوخشىمايدۇ.


ئېلان قىلىنغان ۋاقىت: 2025-يىلى 8-ئاينىڭ 14-كۈنى